電子氣體

無機氣體產品

 

氣體名稱 化學式 規格(%) 雜質(ppm)
氦氣 He   99.995  TCH4≤1 CO2≤1 Ne≤10 H2≤3 CO≤1 H2O≤10
  99.999  O2≤1 TCH4≤1 CO2≤0.5 Ne≤4 H2≤1 CO≤0.5 H2O≤1
  99.9995  O2≤0.5 TCH4≤0.1 CO2≤0.2 Ne≤1 H2≤0.1 CO≤0.1 H2O≤1
Ar   99.99  O2≤10 THC≤10 N2≤50 H2≤5 H2O≤15
  99.999  O2≤2 THC≤2 N2≤5 H2≤1 H2O≤4
  99.9995  O2≤1 THC≤0.5 N2≤2 H2≤0.5 H2O≤1
H2   99.99  O2≤5 CO2≤5 N2≤60 TCH4≤10 CO≤5 H2O≤5
  99.999  O2≤1 CO2≤1 N2≤5 TCH4≤1 CO≤3 H2O≤1
N2   99.99  O2≤50 CO2≤10 N2≤10 CO≤5 H2O≤15 CH4≤30
  99.999  O2≤1 H2O≤2 H2≤1 THC≤3
O2   99.995  Ar≤20 CO2≤1 N2≤20 THC≤2
二氧化碳 CO2   99.995  O2≤10 H2O≤5 N2≤20 CO≤1 THC≤10
  99.999   O2≤1 H2O≤2 N2≤5 CO≤1 THC≤1
一氧化碳 CO   99.95  N2<350,O2<50,H2O<5
二氧化硫 SO2   99.97   O2+N2<100,H2O<10,其他<200
一氧化氮 NO   99.5  N2O<4000、NO2<2000、N2<300、CO2<500
二氧化氮 NO2   99.9  
氧化亞氮 N2O   99.99  
Ne   99.995  H2≤2 N2≤5 He≤40 THC≤1 O2+Ar≤2 H2O≤2
  99.999  O2≤1 N2≤5 H2O≤2 He≤10
Kr   99.99  N2≤20 H2≤2 O2+Ar≤5 Xe≤50 H2O≤3 THC≤3
  99.999  N2≤3 H2≤0.5 O2+Ar≤2 Xe≤4 H2O≤2.6 THC≤1
Xe   99.99  N2≤20 Ar≤10 N2O≤1 O2≤2 H2≤2 Kr≤50 H2O≤3 THC≤3
  99.999   N2≤3 THC≤1 N2O≤0.5 O2+Ar≤2 H2O≤2.6 H2≤0.5 Kr≤4
硫化氫 H2S   99.9   H2<200ppm、O2+N2<100ppm、H2O<3ppm
氯化氫 HCl 99.9%  
氯化氫 HCl 99.99%  
氯化氫 HCl 99.999% N2≤4,CO2≤5,H2O≤1,O2+Ar≤1,TCH≤1
液氯 Cl2   99.9   CO2<400、CO﹤10、H2<200,N2<100、O2<20、H2O<100
  99.999  
NH3   99  
  99.999  O2<1.0ppm、N2<2.0ppm、CO﹤1.0ppmH2O<2.0ppm 
THC(C1~C3)<1.0ppm
六氟化硫 SF6   99.99  O2≤10 H2O≤5 N240 HF≤0.1 CF4≤25
合成空氣 Air   O2:19.5-22.5   H2O≤5 CO/CO2≤0.5 THC≤5
零點空氣     O2:19.5-22.5   H2O≤5 CO/CO2≤0.5 THC≤0.1

有機氣體產品 
 

氣體名稱 化學式 規格(%) 雜質(ppm)
甲烷 CH4 99.5   O2≤100 HC≤1500 N2≤600 H2≤2000
99.95   O2≤5 H2≤10 N2≤100HC≤100H2O≤5 CO/CO2≤10
99.995   O2≤2 H2≤5 N2≤10 HC≤20 H2O≤5 CO/CO2≤1
99.9995   O2≤0.5 H2≤0.1 N2≤2 HC≤0.1 H2O≤2 CO2≤0.1
乙烷 C2H6 99.9   O2≤50 N2≤40 HC≤1000
99.99   O2≤2 HC≤100 N2≤5H2O≤5 CO2≤5
乙烯 C2H4 99.95   O2≤2 CH4≤100 N2≤5 C2H6≤350 H2O≤30 HC≤100
丙烷 C3H8 98.5   O2≤100 HC≤14000 CO+CO2≤10 H2O≤12
99.95   O2≤10 HC≤400 N2≤40 H2O≤5 CO2≤10
丙烯 C3H6 99.5   HC≤1000 C3H8≤4000
99.95   N2≤10 C3H8≤3000 C4H6-1.3≤5 CH4≤5 C4H10≤5 C6H6≤5
丙二烯 C3H4 98   丙炔≤20000
環丙烷 Cy-C3H6 99.0  
正丁烷 n-C4H10 99.0   O2≤15 H2O≤20 HC≤1%
99.5   O2≤15 H2O≤12 HC≤5000 CO2+CO2≤10
99.95   O2≤10 H2O≤10 HC≤500 CO2+CO2≤10
異丁烷 i-C4H10 99.5   O2≤15 C3H8≤4000C4(uns.)≤100 H2O≤15
  n-C4H10≤2500 CO+CO2≤10
99.99   O2≤10 C3H8≤10 C4(uns.)≤50 H2O≤ 5 n-C4H10≤50 CO+CO2≤10
丁烯-1 1-C4H8 99.9   H2O≤10 HC≤1000
順-2-丁烯 C-2-C4H8 99.4   HC≤7000
反-2-丁烯 t-2-C4H8 99.4   HC≤7500
異丁烯 i-C4H8 99.99   H2O≤5 HC≤100
1.3-丁二烯 1,3-C4H6 99.8   O2≤5 N2≤10 HC≤1200
正戊烷 n-C5H12 99.5   C5H10﹤0.1wt%i-C5H120.4wt%
異戊烷 i-C5H12 99.3   n-C5H12wt0.5%
氯甲烷 CH3Cl 99  CH3OH<4000
溴甲烷 CH3Br 99.99  O2≤1,H2O≤2
氯乙烯 C2H3Cl 99.9  

 

品種名稱 化學式 純度(%) 充裝容器(L) 充裝量(Kg)
  氯化氫   HCl   99.995   49、44、16   31.7、27.2、9.1
  99.9995
  氧化亞氮   N2O   99.97   44、16、8   27.2、9.0、4.5
  99.9998


參雜混合氣
 

類型 組分氣 稀釋氣 備注
硼化合物 
磷化合物 
砷化合物
乙硼烷(B2H6)、三氯化硼(BCl3)、溴化硼(BBr3)
磷烷(PH3)、氯化磷(PCl3)、溴化磷(PBr3) 
砷烷(ASH3)、三氯化砷(ASCl3)
氦、氬、氫 
氦、氬、氫 
氦、氬、氫
具有P形性質 
具有N形性質


外延混合氣
 

序號 組分氣體 稀釋氣體
1.
2.
3.
4.
矽烷(SiH4)
氯矽烷(SiCl4)
二氯二氫矽(SiH2C12)
乙矽烷(Si2H6)
氦、氬、氫、氮
氦、氬、氫、氮
氦、氬、氫、氮
氦、氬、氫、氮


蝕刻混合氣
 

材質 蝕刻氣體
  鋁(Al)
  鉻(Cr)
  鉬(Mo)
  鉑(Pr)
  聚矽
  矽(Si)
  鎢(W)
  氯矽烷(SiCl4)+四氯化碳(CCl4)+(氬、氮)
  四氯化碳(CCl4)+氧、四氯化碳(CCl4)+空氣
  二氟二氯化碳(CCl2F2)+氧、四氟化碳(CF4)+氧
  三氟三氯乙烷(C2Cl3F3)+氧、四氟化碳(CF4)+氧
  四氟化碳(CF4)+氧、乙烷(C2H6)+氯
  四氟化碳(CF4)+氧
  四氟化碳(CF4)+氧


CVD混合氣
 

膜的種類 混合氣組成 生成方法
  半導體膜
 
 
 
  絕緣膜
 
 
 
  導體膜
  矽烷(SiH4)+氫
  二氯二氫矽(SiH2Cl2)+氫
  氯矽烷(SiCl4)+氫
  矽烷(SiH4)+甲烷(CH4)
  矽烷(SiH4)+氧
  矽烷(SiH4)+氧+磷烷(PH3)
  矽烷(SiH4)+氧+磷烷(PH3)+乙硼烷(B2H6)
  矽烷(SiH4)+氧化亞氮(N2O)+磷烷(PH3)
  六氟化鎢(WF6)+氫
  六氟化鉬(MoCl6)+氫
  CVD
  CVD
  CVD
  離子注入CVD
  CVD
  CVD
  CVD
  離子注入CVD
  CVD
  CVD


其他電子氣
 

序號 組分表 稀釋氣 組分氣含量範圍
 1.
 2.
 3.
 4.
 5.
 6.
 7.
 8.
 9.
 10.
  氯化氫(HCl)
  硒化氫(H2Se)
  鍺烷(GeH4)
  磷烷(PH3)
  砷烷(AsH3)
  乙硼烷(B2H6)
  矽烷(SiH4)
  二乙基碲(C2H5)2Te
  氯(Cl2)
  一氧化碳(CO)
  氧、氮
  氬、氦、氫、氮
  氬、氦、氫、氮
  氬、氦、氫、氮
  氬、氦、氫、氮
  氬、氦、氫、氮
  氬、氦、氫、氮
  氬、氦、氫、氮
  氮
  六氟化硫
  1%-10%
  (5-5000)×10-6
  1%-5%
  (5-5000)×10-6、0.5%-15%
  (5-5000)×10-6、0.5%-15%
  (5-5000)×10-6、1%
  0.5%-15%
  (5-5000)×10-6
  28%
  22%

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